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ESS03 波长扫描时式 多入射角光谱椭偏仪
ES0S3是针对科研和工业环境中薄膜测量领域推出的波长扫描式高精度多入射角光谱椭偏仪,此系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见、近红外、到远红外。ESS03采用宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨
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Film Sense FS-1™多波长椭偏仪
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波长扫描式 多入射角光谱椭偏仪
光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,膜层厚度、表面微粗糙度等)和光学参数(如,折射率n、消光系数k、复介电常数ε等),也可用于测量块状材料的光学参数。
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Axios FAST 多道同时式波长色散型X射线荧光光谱仪
超高速度和超高通量专用于金属工业关键过程分析从 1994 年飞利浦第一代多道同时式 X 射线荧光光谱仪 PW2600诞生以来,马尔文帕纳科的多道 XRF 已经历了 4 代产品更迭,而不变的是其优异的
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多入射角激光椭偏仪
纳米薄膜高端研发领域专用的多入射角激光椭偏仪,用于纳米薄膜的厚度、折射率n、消光系数k等参数的测量。适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。采用
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快速摄谱式 多入射角光谱椭偏仪
光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
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In-situ series 在线椭偏仪
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EMPro 多入射角激光椭偏仪
EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k
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UVISEL 2 VUV 真空紫外椭偏仪
专为VUV 测量设计,整个系统处于真空状态,无氧气吸收。具备高度准确性;独一无二的超快测量速度;快速样品室抽真空能力,方便快速更换样品;氮气消耗量少。
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极致型多入射角激光椭偏仪
EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k
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